直流磁控溅射问题用ZO掺Al靶材,溅射时偶尔有打火,最重要的是电压开始只能调到500v,电流大概200mA,随着溅射时间,电压一直升高,到800V时电压不动,电流开始降低,辉光愈来愈弱,整个过程不到十
来源:学生作业帮助网 编辑:作业帮 时间:2024/07/03 23:21:15
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直流磁控溅射问题用ZO掺Al靶材,溅射时偶尔有打火,最重要的是电压开始只能调到500v,电流大概200mA,随着溅射时间,电压一直升高,到800V时电压不动,电流开始降低,辉光愈来愈弱,整个过程不到十
直流磁控溅射问题
用ZO掺Al靶材,溅射时偶尔有打火,最重要的是电压开始只能调到500v,电流大概200mA,随着溅射时间,电压一直升高,到800V时电压不动,电流开始降低,辉光愈来愈弱,整个过程不到十分钟,放另一块同类靶材可以做的时间长一点,但是不知道什么原因会这样漂,而且电流最大只能200mA,如何提高电流?
直流磁控溅射问题用ZO掺Al靶材,溅射时偶尔有打火,最重要的是电压开始只能调到500v,电流大概200mA,随着溅射时间,电压一直升高,到800V时电压不动,电流开始降低,辉光愈来愈弱,整个过程不到十
虽然不知道你说的ZO是什么材料,从你描述的现象里看应该是靶中毒.明显你的靶材导电性不好,另一块靶材可能掺Al更加均匀,所以溅射时间长一些.
直流磁控溅射问题用ZO掺Al靶材,溅射时偶尔有打火,最重要的是电压开始只能调到500v,电流大概200mA,随着溅射时间,电压一直升高,到800V时电压不动,电流开始降低,辉光愈来愈弱,整个过程不到十
作直流磁控溅射铜靶时,无法起辉.作直流磁控溅射铜靶时,无法起辉,而且调节溅射电压时,电压不变,电流却急剧增大,请问是有什么原因引起?该如何解决?(氩气调节至400sccm)
真空蒸镀与溅射镀膜优缺点蒸镀用的是环形电子枪加热,溅射用的是平面磁控溅射.麻烦说一下这两种镀膜方式各自优缺点
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直流磁控溅射和射频磁控溅射的区别是什么啊?最好详细解释一下还有就是为什么直流磁控溅射只能用金属靶材?粘贴无效哈
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磁控溅射设备 用什么靶材能镀出红色?
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